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碳化硅涂層
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作者:travel-100
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發(fā)布時(shí)間: 2022-03-18
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碳化硅涂層是指采用物理或化學(xué)氣相沉積、噴涂等方法在零件表面制備SIC涂層的方法。
碳化硅涂層
碳化硅涂層是指采用物理或化學(xué)氣相沉積、噴涂等方法在零件表面制備SIC涂層的方法。
制備涂層的原因
SiC具有優(yōu)異的物理化學(xué)性能，如高熔點(diǎn)、高硬度、耐腐蝕、抗氧化等，特別是在1800-2000℃范圍，具有良好的抗燒蝕性能，因此，在航空航天、兵器裝備等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。但SiC本身不能作為結(jié)構(gòu)材料使用，所以通常采用制備涂層的方法，以利用其耐磨性以及抗燒蝕性。
制備涂層的常見(jiàn)方法
1、化學(xué)氣相沉積（CVD） [1]
將需制備SiC涂層的試樣放入反應(yīng)管中，以MTS為先驅(qū)體原料，在950-1300℃、負(fù)壓條件下沉積SiC涂層在試樣表面。
2、先驅(qū)體轉(zhuǎn)化法（PIP） [2]
將試樣進(jìn)行預(yù)處理后，放入浸漬罐中，對(duì)浸漬罐抽真空，再注入浸漬溶液，加壓浸漬，減壓取出試樣。在爐中進(jìn)行裂解，爐冷至室溫取出，即可在試樣表面實(shí)現(xiàn)SiC涂層。這里的浸漬溶液是陶瓷先驅(qū)體為主要成分的溶液。
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